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原子层沉积系统(ALD)
应用。 NLD-3500(M)原子层沉积系统特点:NLD-3500是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的
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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
应用。 NLD-3000原子层沉积系统特点:NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计
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SUPERALD Exploiter原子层沉积Thermal-ALD
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可
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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
沉积工艺的一个范例。请与我们联系,讨论您的特定需求,我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的沉积工艺和工具,以满足您的需求。 紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统 OpAL提供
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原子层沉积技术ALD-P1000
原子层沉积技术ALD-P1000技术参数衬底尺寸和类型大小不等的3D结构物件(例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等)工艺温度50 - 400 °C标准选件Al2O3
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
适配器安装尺寸W1000 x D700 x H900 SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
广泛的应用。 NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统特点:NLD-4000(A)是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能
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SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD
通过高速以太网进行通讯。• 采用 PLC 对设备进行实时控制,同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动,支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能• 设备支持“一键沉积”功能
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芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV
薄膜沉积PICOSUN™ALD-P300B型 技术参数:衬底尺寸和类型200mm晶圆 25片/批次(标准间距)150mm 晶圆 50片/批次(标准间距)100mm 晶圆 75片/批次(标准间
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